掩膜版(Photomask)，又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。按应用领域来看，掩膜版可分为半导体芯片、平板显示、电路板和触控等类型。其中平板显示掩膜版是掩膜版应用第二大下游领域。2023年中国平板显示掩膜版行业市场规模约36亿元，近五年行业复合增速为11%。初步估算，2024年中国平板显示掩膜版行业市场规模进一步增长至约40亿元。
近十年来，我国平板显示行业加快速度进行发展，涌现出如京东方、华星光电等龙头平板显示企业。从出货面积来看，2015-2021年间我国显示面板出货面积稳定增长，2022年出货面积首次出现下降，2023年有所回暖出货面积达15850万平方米，占全球市场比重近64%。总的来看，我国平板显示掩膜版下游需求较稳定。
当前中国平板显示用掩膜版制造业在高端市场仍由国际巨头如Photronics、HOYA等主导，国产品牌市场则呈现“两强多追”的竞争格局。清溢光电和路维光电是国内有突出贡献的公司，分别在高世代掩膜版(如G8.5、G11)和高精度掩膜版领域占据主导地位，并正在加速追赶海外企业市场占有率，尤其在AMOLED、MicroLED等新型显示技术领域取得进展。
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